管式气相沉积设备 CVD80
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    北京-东城区

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    其它

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    其它

  • 发布日期:

    2017-03-29 15:28:46

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    207

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泰科诺科技有限公司
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崔村镇西辛峰工业区6区1号
产品详情

一、产品概述

1、主要用途及应用范围:可制备用于光电子、半导体、石墨烯、微波器件等高纯薄膜。适合于企业、高校、科研单位产品开发使用;

2、产品优点及特点:该设备是采用准无油真空系统,极限真空高;石英管生长室清洁无污染;4~6路气体精确控制;加热温度高且控温准确且均匀;加热温度1000℃或更高 ,设备兼具真空退火炉功能;

二、技术参数

型号 CVD-80
生长炉 高纯石英腔体,Φ80mm×L1000mm
真空系统 复合分子泵高真空系统
极限真空 优于2.0×10-4Pa
加热温度 室温~1000℃,可调可控
气源控制柜 模拟显示及控制
总功率 ≥8KW
控制方式 手动/自动控制可选
报警及保护系统 设备具有断水、过流、过压等保护装置及电气连锁保护系统